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English

The Path to the Perfect Cropping Mask

Mask Integrator is the ideal tool to automatically generate very detailed cropping masks. The quality of the cropping masks very much depends on the lighting of the backlight image so we would like to give you a few tips on how to create perfectly clean luminance masks.
Deutsch

Der Weg zur perfekten Freisteller-Maske

Mask Integrator ist das ideale Werkzeug um sehr detaillierte Freisteller automatisch zu erzeugen. Da die Qualität der Freisteller maßgeblich von der Beleuchtung des Gegenlichtfotos abhängt, möchten wir dir hier ein paar Tipps zur Erzeugung sauberer Luminanz-Masken an die Hand geben.
1a. Correct Shading
Shading elements on the same level as the subject don´t really avoid stray light hitting the edge of the subject. The more light hits the edge of the subject the less accurate the cropping mask will be.
1a. Richtig Abschatten
Abschattende Elemente auf Höhe des Motivs vermeiden kaum seitliches Streulicht auf die Kante des Motivs. Je mehr Licht auf die Kante des Motivs fällt, desto schlechter ist die Freistellungs-Maske.
1b. Correct Shading
Placing shading elements as close to the background light source as possible help avoiding lateral light spill onto the edge of the subject. A smaller light surface has the same effect.
1b. Richtig Abschatten
Durch eine möglichst nahe Platzierung, von abschattenden Elementen an der Hintergrund-Lichtfläche, werden seitliche Einstreuungen auf die Kante des Motivs vermieden. Eine kleinere Lichtfläche ergäbe natürlich den selben Effekt.
2a. Correct Subject Placement
If you place the subject very close to the lit background, the light reaching its edges is still relatively intense.
2a. Richtige Positionierung des Motivs
Ist das Motiv sehr nah an der beleuchteten Rückwand positioniert, so hat das Licht, welches die Kanten des Motivs seitlich erreicht, noch eine relativ hohe Intensität.
2b. Correct Subject Placement
Light decreases exponentially over distance. Every gained centimetre/inch between the background light and the subject will improve the quality of the mask. Rule of thumb: the greater the distance between the lit background and the subject the better the result.
2b. Richtige Positionierung des Motivs
Da das Licht mit dem Quadrat zur Entfernung abnimmt, wirkt sich jeder gewonnene Zentimeter zwischen Hintergrundbeleuchtung und Motiv positiv auf die Qualität der Maske aus. Es gilt die Regel: Je mehr Abstand zwischen beleuchtetem Hintergrund und Motiv, desto besser.
3a. Minimize Light Scattering Angle
The bigger the light source is, the more light will hit the edge of the subject. The following image shows how shadowing elements can be placed closer to the right and left of the subject to minimize interference...
3a. Einstreuwinkel reduzieren
Je größer die Lichtquelle, desto mehr Lichteinstreuungen gibt es auf die Kante des Motivs. In der folgenden Grafik könnten zur Minimierung von Einstreuungen nicht nur die abschattenden Elemente links und rechts näher am Motiv positioniert werden ...
3b. Minimize Light Scattering Angle
It is highly recommended to also block scattering light hitting an subject from above when working with a large light source.
3b. Einstreuwinkel reduzieren
Es empfiehlt sich unbedingt auch von oben die Lichteinstreuungen aus einer zu großen Lichtquelle abzuschatten.
4a. Even Background
If it is unavoidable that the light causes a gradient on the background it is recommended to have a gradient that decreases in intensity over distance from the subject...
4a. Gleichmäßiger Hintergrund
Sollte sich ein Lichtverlauf auf dem Hintergrund nicht vermeiden lassen, so empfiehlt sich eher ein Verlauf dessen Intensität mit zunehmender Entfernung vom Motiv abnimmt...
4b. Even Background
This results in a mostly contrasted edge of the subject.
4b. Gleichmäßiger Hintergrund
Damit ergibt sich am Motiv eine stärkere Kontrastkante.
4c. Even Background
A 100% evenly lit background is perfect. This is particularly true when you try to mask semi-transparent subjects like glass. Uneven backgrounds can cause similar luminance values inside and outside of the subject. Semi-transparent areas of the subject can then unwantedly become 100% transparent.
4c. Gleichmäßiger Hintergrund
Perfekt ist jedoch ein 100% gleichmäßig ausgeleuchteter Hintergrund. Das macht sich vor allem bei der Freistellung von semitransparenten Gegenständen wie Glas bemerkbar. Dabei führen ungleichmäßige Hintergründe nämlich schnell dazu, dass im Motiv gleiche Luminanzwerte vorkommen, wie außerhalb des Motives, was dazu führt, dass eigentlich semitransparente Bereiche des Motives 100% transparent werden.
We hope that we could help clear up a few questions on how to set up lights for a backlight shot when you want to use Mask Integrator.

Have fun with the automatic background removal in Mask Integrator!
Wir hoffen, dass wir die ein oder andere Unklarheit betreffend des Lichtaufbaus für den Gegenlichtschuss zur Verwendung in Mask Integrator beseitigen konnten.

Viele Spaß beim automatischen Freistellen mit Mask Integrator!
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